Z profesjonalnego punktu widzenia proces produkcji chipa jest niezwykle skomplikowany i żmudny.Jednakże cały łańcuch przemysłowy układów scalonych dzieli się głównie na cztery części: projektowanie układów scalonych → produkcja układów scalonych → pakowanie → testowanie.
Proces produkcji chipów:
1. Projekt chipa
Chip jest produktem o małej objętości, ale niezwykle dużej precyzji.Aby stworzyć chip, pierwszą częścią jest projekt.Projekt wymaga pomocy projektu chipa projektu chipa wymaganego do przetwarzania za pomocą narzędzia EDA i niektórych rdzeni IP.
Proces produkcji chipów:
1. Projekt chipa
Chip jest produktem o małej objętości, ale niezwykle dużej precyzji.Aby stworzyć chip, pierwszą częścią jest projekt.Projekt wymaga pomocy projektu chipa projektu chipa wymaganego do przetwarzania za pomocą narzędzia EDA i niektórych rdzeni IP.
3. Lifting silikonowy
Po oddzieleniu krzemu pozostałe materiały są porzucane.Czysty krzem po wielu etapach osiągnął jakość produkcji półprzewodników.Jest to tak zwany krzem elektroniczny.
4. Wlewki krzemowe
Po oczyszczeniu krzem należy odlać do wlewków krzemowych.Monokryształ krzemu elektronicznego po odlaniu do wlewka waży około 100 kg, a czystość krzemu sięga 99,9999%.
5. Przetwarzanie plików
Po odlaniu wlewka krzemowego cały wlewek krzemowy musi zostać pocięty na kawałki, czyli wafelek, który powszechnie nazywamy waflem, który jest bardzo cienki.Następnie wafel jest polerowany do perfekcji, a powierzchnia jest gładka jak lustro.
Średnica płytek krzemowych wynosi 8 cali (200 mm) i 12 cali (300 mm).Im większa średnica, tym niższy koszt pojedynczego chipa, ale tym większa trudność przetwarzania.
5. Przetwarzanie plików
Po odlaniu wlewka krzemowego cały wlewek krzemowy musi zostać pocięty na kawałki, czyli wafelek, który powszechnie nazywamy waflem, który jest bardzo cienki.Następnie wafel jest polerowany do perfekcji, a powierzchnia jest gładka jak lustro.
Średnica płytek krzemowych wynosi 8 cali (200 mm) i 12 cali (300 mm).Im większa średnica, tym niższy koszt pojedynczego chipa, ale tym większa trudność przetwarzania.
7. Zaćmienie i wtrysk jonów
Po pierwsze, konieczne jest skorodowanie tlenku krzemu i azotku krzemu odsłoniętych na zewnątrz fotorezystu i wytrącenie warstwy krzemu w celu izolacji pomiędzy rurą kryształową, a następnie zastosowanie technologii trawienia w celu odsłonięcia dolnego krzemu.Następnie wstrzyknij bor lub fosfor do struktury krzemowej, następnie wypełnij miedź, aby połączyć się z innymi tranzystorami, a następnie nałóż na nią kolejną warstwę kleju, aby utworzyć warstwę struktury.Ogólnie rzecz biorąc, chip zawiera dziesiątki warstw, przypominających gęsto splecione autostrady.
7. Zaćmienie i wtrysk jonów
Po pierwsze, konieczne jest skorodowanie tlenku krzemu i azotku krzemu odsłoniętych na zewnątrz fotorezystu i wytrącenie warstwy krzemu w celu izolacji pomiędzy rurą kryształową, a następnie zastosowanie technologii trawienia w celu odsłonięcia dolnego krzemu.Następnie wstrzyknij bor lub fosfor do struktury krzemowej, następnie wypełnij miedź, aby połączyć się z innymi tranzystorami, a następnie nałóż na nią kolejną warstwę kleju, aby utworzyć warstwę struktury.Ogólnie rzecz biorąc, chip zawiera dziesiątki warstw, przypominających gęsto splecione autostrady.
Czas publikacji: 8 lipca 2023 r